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真空镀膜系统对温度控的要求

时间:2020-07-01 09:25 点击次数:
                                                                                 真空镀膜系统对温度控的要求
 
    真空镀膜工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光,所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮,果如真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射,结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种,如镀钛镀锆等等。
中频设备必须加冷却水,原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应,电荷会聚集在电导有表面积,这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。
(主要是圆柱靶)为什么也要用水冷却?磁控溅射靶在发射时会产生高温会使射枪变形,所以它有一个水套来冷却射枪。同时还有一个重要原因磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的成就之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好。
从更深层次研究电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因。磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的成就之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定。
另外根据镀膜机种类和加工产品不一样,对冷水的要求也会不一样,普通材料蒸发选用冷却水塔水温在30℃左右的就可以使用,如果涉及硬质件件温度会要求在15-25℃。就必须要使用上冷水机这一块
还有一种情况低温冷阱的应用是在辅助抽气系统真空镀膜的排气系统采用的是由扩散泵、机械泵、罗茨泵、低温冷阱、等部分组成低温冷阱也是不可或缺的一部分
1、如果镀膜机用的是扩散泵的话,一般泵口回加一套冷阱,用于捕捉油分子。这种制冷不需要加热回温,可以用一般的冷冻机(-20°左右)或者深冷(-140°左右)。
2、如果镀膜机想提高抽速的话,一般要加带回温装置的深冷,。抽气时制冷,箱体放气前回温。
3、还有一种情况卷绕镀膜,薄膜镀铝的时候要制冷,到-15°左右,放气前要回温到室温。
 
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